三氟化氮
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三氟化氮

化学式:NF3

纯度规格:5N

主要用途:清洗、、刻蚀

主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、、、、 显示面板

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产品详情

高纯三氟化氮主要应用于大规模集成电路和显示面板等制造过程中的清洗、、、、刻蚀工艺,,具有良好的选择性、、蚀刻速率,,,,纯度一般需要达到4N,,公司已实现5N 级三氟化氮的量产,,,凭借优异的产品品质,,,多年来稳定供应境内外集成电路和显示面板知名客户,,在业内树立了技术领先、、、、产品优质、、、、客户信赖的品牌形象。。。

以品质为基石,,,开拓全球市场

目前,,乐友公司拥有单条年产能超过3000吨的高纯三氟化氮气体生产线,,拥有高纯六氟化钨规模化生产线,,,,拥有三氟甲磺酸系列产品研发生产基地,,建设了高纯钨制品中试生产线,,实现了企业大宗制气的技术突破,,,已成为国内特气行业产品系列丰富、、生产能力大、、、、市场覆盖面和占有率高、、、、持续创新能力强的企业。。。

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公司主要从事电子特种气体及三氟甲磺酸系列产品的研发、、生产和销售,,,,主要产品包括高纯三氟化氮、、高纯六氟化钨、、高纯氯化氢、、高纯氟化氢、、高纯四氟化硅、、高纯氘气、、高纯六氟丁二烯、、、、高纯八氟环丁烷、、、、高纯电子混合气等电子特种气体,,,以及三氟甲磺酸、、、三氟甲磺酸酐、、、双(三氟甲磺酰)亚胺锂等含氟新材料。。


三氟化氮

化学式:NF3

纯度规格:5N

主要用途:清洗、、刻蚀

主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、、、、 显示面板


六氟化钨

化学式:WF6

纯度规格:6N

用途:沉积

主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


氯化氢

化学式:HCl

纯度规格:5N

用途:清洗、、刻蚀

主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


氟化氢

化学式:HF

纯度规格:5N

用途:清洗、、、、刻蚀

主要应用领域:集成电路(LOGIC/DRAM/3D NAND)

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